На производстве полупроводников при нарезке кристаллов остается пленка, чувствительная к ультрафиолету. Ее необходимо удалить без использования тепла, без оставления следов и без повреждения самого кристалла. Если выбрать неподходящую лампу, то будет возникнуть проблема с адгезией пленки к кристаллу — ее будет сложно отделить. Это приведет к необходимости повторной обработки, что снижает производительность.
Мы разработали подводные УФ-лампы именно для этой цели: они обеспечивают правильный спектр излучения, что позволяет быстро и эффективно отделить пленку от кристалла.
Что действительно важно с технической точки зрения
Все сводится к соответствию длины волны излучения характеристикам фотинициатора, содержащегося в пленке — обычно это значение составляет около 365 нм. Необходимо также поддерживать стабильную интенсивность излучения. Максимальная интенсивность излучения должна быть направлена на поверхность кристалла, а энергия, необходимая для его обработки, должна поступать в виде определенной дозы в единицах мДж/см².
Г Geометрия кварцевого корпуса и отражателя выбирается таким образом, чтобы максимальное количество ультрафиолетового излучения достигало нужной области. Без использования озона сохраняется чистота в помещении. Когда речь идет об интенсивности излучения, имеется в виду спектральная радиометрия, а не рекламные заявления.
Почему этот подход эффективен при отделении пленки после нарезки
При отделении пленки после нарезки важны скорость и контроль процесса. Наши подводные устройства позволяют обеспечить одинаковую интенсивность излучения на всей поверхности пленки одновременно.
Благодаря такой однородности избегается перекосы краев пленки и ее неполное отделение от кристалла. Это позволяет сохранять стабильные параметры процесса. В результате уменьшается количество микротрещин на кристаллах, снижается количество необходимой повторной обработки, а производительность становится предсказуемой. Также снижается потребление энергии, поскольку лампа обеспечивает необходимую интенсивность излучения без лишних расходов энергии.
Детали, на которые нельзя закрывать глаза
При использовании подводных ламп необходимо учитывать совместимость с жидкостью для охлаждения и правильность установки. Необходимо убедиться, что материал корпуса лампы совместим с используемой жидкостью для охлаждения, а также поддерживать правильный расход жидкости, чтобы кварцовый корпус работал при заданной температуре.
Стабильность излучения зависит от стабильности питания и возраста лампы. Поэтому замена лампы должна происходить на основе измеряемых показателей интенсивности излучения, а не только времени ее работы. Необходимо также убедиться, что лампа соответствует размерам устройства, в котором она будет использоваться, и что отражатель правильно расположен относительно пленки, чтобы избежать теней.