W procesie produkcji półprzewodników krojenie płytek pozostawia na ich powierzchni film wrażliwy na promieniowanie UV. Ten film musi zostać usunięty bez użycia ciepła, bez żadnych pozostałości i bez uszkodzenia samej płytki. Jeśli wybierzemy niewłaśćlną lampę, zostanie nam klej, który nie chce się oddzielić od płytki. To oznacza konieczność ponownego przetwarzania produktu, a co za tym idzie – spadek efektywności produkcji.
Stworzyliśmy specjalne lampy UV do stosowania pod wodą właśnie po to: aby zapewnić odpowiednią intensywność promieniowania UV, precyzyjnie skierowaną na konkretny obszar, dzięki czemu proces usuwania filmu przebiega szybko i kontrolowanie.
Co jest naprawdę istotne z technicznego punktu widzenia? Chodzi o dopasowanie długości fali. Lampę ustawiamy tak, aby jej działanie pokrywało pasmo absorpcji fotoinicjatora znajdującego się na powierzchni filmu – zwykle około 365 nm. Musimy też utrzymać stałą szerokość spektrum oraz stałą intensywność promieniowania. Maksymalna intensywność promieniowania jest określana bezpośrednio na powierzchni, na której odbywa się proces utwardzania. Energia potrzebna do tego procesu jest dostarczana w postaci stałej dawki w jednostkach mJ/cm².
Kształt kwarcowego opakowania oraz reflektora został dobrane tak, aby uzyskać jak najwięcej użytecznego promieniowania UV w miejscu, gdzie jest ono potrzebne. Konstrukcja bez ozonu zapewnia spełnienie wymogów strefy czystej. A kiedy mówimy o intensywności promieniowania, mamy na myśli rzeczywiste wartości pomiarowe, a nie reklamowe obietnice.
Dlaczego taki sposób działania jest skuteczny przy usuwaniu filmu po krojeniu? Przy usuwaniu filmu po krojeniu szybkość i kontrola są kluczowe. Nasze lampy umożliwiają równomierne rozpraszanie promieniowania UV na całej powierzchni filmu, dzięki czemu cała powierzchnia otrzymuje tę samą dawkę promieniowania w tym samym czasie.
Ta równomierność zapobiega podnoszeniu się brzegów filmu oraz jego niepełnemu oddzieleniu się od płytki. Dzięki temu czas procesu pozostaje konstantny, a siła oddzielania filmu jest stabilna. Rezultatem jest mniej mikropęknięć na delikatnych płytkach, mniej konieczności ponownego przetwarzania produktu oraz lepsza efektywność produkcji. Zużycie energii maleje, ponieważ lampa dostarcza dokładną ilość energii w potrzebnym momencie, bez marnotrawstwa energii na inne części spektruma.
Elementy, na które nie można zignorować Praca lampy pod wodą wymaga uwagi na kompatybilność chłodziwa oraz szczelność urządzenia. Należy sprawdzić, czy materiał obudowy lampy jest kompatybilny z chłodziwem, a także utrzymać właściwy przepływ chłodziwa, aby kwarc mógł pracować w ustalonej temperaturze.
Stabilność intensywności promieniowania zależy od stabilności zasilania oraz wieku lampy. Dlatego terminy wymiany lampy należy ustalać na podstawie pomiarów intensywności promieniowania, a nie tylko liczby godzin pracy lampy. Upewnij się, że lampa pasuje do rozmiarów urządzenia, a reflektor jest dobrze skierowany tak, aby nie powstawały cienie.